跳到内容
首页
关于拉普拉斯
公司介绍
发展历程
企业文化
社会责任
拉普风采
产品中心
高效电池设备
组件设备
智能制造
检测分析
核心零部件
半导体
新闻中心
公司新闻
行业新闻
人才招聘
职业发展
招聘信息
下载中心
联系我们
投资者关系
Menu
首页
关于拉普拉斯
公司介绍
发展历程
企业文化
社会责任
拉普风采
产品中心
高效电池设备
组件设备
智能制造
检测分析
核心零部件
半导体
新闻中心
公司新闻
行业新闻
人才招聘
职业发展
招聘信息
下载中心
联系我们
投资者关系
Search
Search
Close this search box.
中文
EN
中文
EN
低压硼扩散设备
首页
/
高效电池设备
/ 低压硼扩散设备
首页
/
高效电池设备
/ 低压硼扩散设备
低压硼扩散设备
参数表
功能介绍
通过高温热分解和化学反应,实现硼硅玻璃(BSG)的生长和硼原子的扩散掺杂。应用于硅片氧化,硼掺杂。
参数配置
平均开机率
98%
炉管内径
430 – 480mm
单管载片量
2200 – 2880 片/管, 双插
硅片尺寸
可兼容182-230各种硅片尺寸
方阻均匀性
片内与片间 , ≤ 5%;批次间, ≤ 3%
温度范围
600-1050℃
配置
可配置水氧,在线隔膜泵清洗
技术特点
采用双插大产能,成本低
独创四分热场,搭载ATS系统控温更精准
法兰设计吹扫环,改善保养周期
新型水冷炉门系统
新型冷却净化台
全自动智能化控制系统
一键温度自整定功能,减少调试时间
全新自动吹扫模式,改善泵和耗件维护周期
镀膜效果