低压磷扩散设备

低压磷扩散设备

功能介绍

通过高温热分解和化学反应，实现磷硅玻璃（PSG）的沉积和磷原子的扩散掺杂。应用于硅片氧化，磷掺杂，Poly磷掺杂等功能。

参数配置

平均开机率98%
炉管内径430-480mm
单管载片量2400-2880片/管
硅片尺寸可兼容182-230各种硅片尺寸
方阻均匀性片内&片间 ≤5%;批间 ≤4%
温度范围400-950℃

技术特点

采用双插大产能，成本低
法兰设计吹扫环，改善保养周期
独创四分热场，搭载ATS系统控温更精准
新型法兰固定方式，提升密封性
新型水冷炉门系统
新型冷却净化台
全自动智能化控制系统
一键式温度自整功能，减少调试时间